Bu çalışmada fotokatalitik prosesinde hole ve elektron reaksiyonları fotoelektrokatalitik (FEK) prosesi içerisinde ayrılarak hole reaksiyonları ile  humik asit (HA)  giderimi toplam organik karbon (TOK),UV₂₅₄ ve Vis₄₀₀ parametrelerinin ölçülmesi ile incelenmiştir.  UV₂₅₄ ve Vis₄₀₀ arıtımının birinci derece kinetik modele uyduğu tespit edilmiştir. 25 mgL^-1 HA çözeltisi 2 saat süre ile FEK proses içerisinde arıtıldıktan sonra yaklaşık olarak %96 Vis₄₀₀, %98 UV₂₅₄ ve %80 TOK giderimi elde edilmiştir. FEK arıtma sisteminde HA gideriminin fotokatalitik sisteme göre çok daha fazla olduğu gözlenmiştir. FEK HA giderimine pH, elektrolit ve elektrik potensiyeli etkisi ayrıca araştırılmıştır.

Anahtar kelimeler: Humik asit, fotoelektokatalitik, fotokatalitik, arıtma.